번호 용어 설명
184 제거율 막 공급수 중의 오염물질 등이, 막에 의해 제거(저지)되는 비율을 말한다. 저지율의 항을 참조.
183 플러싱(세척) (1)장치에서 깨끗한 물을 이용하여 장치 내에 오염된 약품의 잔류물 등을 씻어내는 조작 (2)물을 투과시켜 막을 세정하고자 하는 조작
182 정유량 여과방식 막의 여과유량을 일정하게 유지하여 여과하는 방식을 말한다. 정량펌프나 정유량계을 이용하여, 여과수량을 일정하게 유지해서 여과를 행한다. 막 여과를 계속하면 막의 막힘 등에 의해 여과저항이 상승하기 때문에 여기에 맞도록 1차측의 압력을 상승시키거나, 또는 2차측의...
181 스케일 농축과 농도분배에 의해 공급수 중의 난용성 물질의 막표면 농도가 상승하여 용해도를 초과함에 따라 막의 표면에서 석출되어 부탁된 층
180 정압 여과방식 막 공급수 차압을 일정하게 유지하여 여과하는 방식을 말한다. 압력을 일정하게 하는 방법으로서는 1차 측에 정양정 펌프나 압력 조정기구를 설치하거나, 2차 측에 진공펌프 등을 설치하여 여과를 행한다. 정압 여과방식에 있어서 막 여과 유속은 막의 막힘에 따라 저하한다.
179 젤 층 막표면에 형성된 원수중의 현탁물질 및 용해성분 석출물이 부착되어 이루어진 층
178 정밀여과 법 막 세공보다 큰 입자는 막을 투과하지 않고, 작은 입자는 투과한다고 하는 '체걸음'기능을 근거로 입자의 크기로 분리를 행하는 막 여과법을 말한다. 간단히 정밀여과라고 말한다. 입경 0.01㎛ 이상의 영역을 분리대상으로 하여, 분리성능은 공칭공경으로...
177 농도 분극 상부측의 막 표면에서 투과에 의한 용질의 농도가 상승하여 균일하게 분포하지 않는 현상
176 접착층 중공사막 혹은 관상막을 다수 묶어 말단을 에폭시, 우레탄 등의 지수로 고정화(potting)하여, 이후 중공사 등의 開孔部가 가지런한 위치에서 절단됨으로써 형성되는 막 개공부가 노출한 원판상의 부분을 말한다. 점착층은 1차 측 압력에 견디어...
175 막 오염지수 역삼투막법에서 모듈로의 공급수 중의 미량의 현탁물질을 정량화하는 지수비고 1. FI 또는 SDI(Silt Density Index)로 표기한다. 2. FI(SDI)구하는 방법은 위 식을 따른다.여기서, T0는 0.45㎛의 정밀여과막을 이용하여 시료에 2...
174 전처리 막의 보호 및 fouling의 제어를 목적으로 막 여과 설비의 전단에서 행하는 전처리 공정을 말한다. 전처리로서는 협잡물을 제거하기 위한 스크린, 프리필터나 strainer 등, 여과성능 향상 등을 위한 응집제 주입, 혹은 살조(殺藻), 막에의 유기물 부착...
173 막오염 막자체 구조는 변화하지 않고 미세공이 막히거나 부착층 형성으로 막표면 및 기공을 오염시켜 분리막 기능이 저하되는 현상
172 전량 여과방식 Dead end 여과방식의 항을 참조.
171 후처리 투과수 용도에 맞도록 수질을 조절하기 위해 탈기, pH조절, 살균등의 조작
170 전기투석 법 투석 막의 외측에 전극을 설치하여 직류전압을 가해 이온의 이동을 전장에 의해 가속시킴으로써, 농도차 외에 전위차를 주어 저분자 전해질 이온을 신속하게 용액중에서 제거하는 방법이다. 간단히 전기투석이라고 한다. 염수의 탈염, 해수에서의 식염제조 등에 이용된다.
169 안전필터 역삼투 장치의 고압펌프 앞에 설치하여 이물질에 의한 펌프 손상을 방지할 목적으로 설치하는 필터
168 전기 투석 막 전기 투석법에 사용하는 막을 총칭하여 말한다.
167 전처리 막 또는 필터의 오염을 완화시키기 위해 주로 현탁물질의 제거를 위한 응집, 여과, pH조절, 살균등의 조작
166 저지율 특정의 용질이 막에 의해 투과가 저지되는 비율로 실질적으로 제거율과 같으며, 위 식으로 표현된다. 염류농도에 주목한 경우는 탈염률이라고 한다. <BR>여과의 진행에 따라 막 표면상에는 저지된 용질이 농축되어, 막 공급수중의 농도보다 높게 된다. 이것을 ...
165 배제액 막에 의해 투과가 배제된 용액
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